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晶圆专用接触角测量仪PZ-500W
产品名称: 晶圆专用接触角测量仪
产品型号: PZ-500W
品牌名称: 品智创思
一、产品概述:
PZ-500W晶圆专用接触角测量仪是采用外形图像分析(Shape image analysis)方法测量样品表面接触角、润湿性能、表界面张力、表面能、前进后退角及滞后性、多点自动智能接触角测量等性能的晶圆专用设备,设备自动化程度高,可搭配自动化流水线实现在线拟合。

接触角(Contact angle)是指在气、液、固三相交点处所作的气-液界面的切线,此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ,接触角测量是现今表面性能检测的主要方法。
二、产品参数:

三、测量软件:
1、接触角范围:0~180°
2、分辨率:0.01°
3、全自动测量:全自动一键测量功能(可编程测试点位,多点自动测量)
4、数据量:一键分析12in晶圆>100个数值
5、形态谱图:2D形态数据谱图
6、接触角测量方式:全自动、半自动、手动
7、分析方式:悬滴法、停滴法(2/3态)、气泡捕获法、座滴法、座针法、插板法
8、分析方法:静态分析、自动增液缩液动态分析、润湿动态分析、实时分析、双边分析、前进后退角分析
9、测试方法:圆法、椭圆/斜椭圆法、微分圆/微分椭圆法、Young-lapalace、宽高法、切线法、区间法
10、表/界面张力测试:测试范围:0~3000mN/m;分辨率:0.01 mN/m;张力测量方式:全自动;分析方式:气泡捕获法、悬滴法、实时谱图
11、表面自由能:测试方法:Zisman、OWRK、WU、WU 2、Fowkes、Antonow、Berthelot、EOS、粘附功、浸湿功、铺展系数
12、数据处理:输出方式:自动生成,可导出/打印EXCEL、Word、谱图等多种报告格式
四、产品应用:
接触角测量仪广泛应用于各个行业领域,在手机制造、玻璃制造、表面处理、材料研究、化学化工、半导体制造、涂料油墨、电子电路、纺织纤维、医疗生物等领域,接触角测量已经成为了一项评估表面性能的重要仪器。
1. 液体在固体表面的铺展、渗透、吸收等润湿行为,座滴法测量静态接触角;
2. 吸收材料的连续实时研究及过程记录,接触角随时间变化曲线分析;
3. 分析液体在固体表面的粘附功(Adhersion),评估固体表面均匀性、清洁度等。
4. 液体在固体表面的接触角和润湿性:包括静态接触角,动态接触角(前进/后退接触角),接触角滞后性等;
5. 液滴在固体表面的起始滑动角(或滚动角),滑动速度;(扩张功能)
6. 固体表面自由能(surface free energy),及其各种分子相互作用力(如极性/非极性)的贡献;
7. 液体在固体表面的粘结力(adhesion)、滞留力(retention)等;
8. 固体表面在经过清洗、处理后的结果(效果)评估:如洁净度(cleanliness),均匀性(homogeneity),和表面能改变幅度等;
9. 液/流-体系的表面/界面张力:包括静、动态表/界面张力的测量;
10. 表/界面张力以及表面活性成分含量的现场、在线、实时监测;
11. 表面活性物质(如表面活性剂)临界胶团溶度(CMC)的测量:包括全自动CMC测量,全自动有关配方的筛选和优化;
12. 表面活性物质在界面的吸附、排列、取向、松弛等现象的研究;
13. 液体界面的粘弹性和稳定性:如乳状液/泡沫等体系的稳定性研究等等各种与液/流/固-体系相关的界面现象和过程的测量和分析等。
14. 全自动检测整体解决方案,可搭配至流水线上使用,提高检测效率;
五、符合相关标准:
1.GB/T 24368-2009(玻璃表面疏水污染物检测);
2.SY/T5153-2007(油藏岩石润湿性测定方法);
3.ASTM D 724-99(2003)(纸的表面可湿性的试验方法);
4.ASTM D5946-2004(塑料薄膜与水接触角度的测量);
5.ISO15989(塑料薄膜和薄板电晕处理薄膜的水接触角度的测量);
6.GB/T30191-2013(外墙光催化自洁涂覆材料接触角测定方法)
7.DB44∕T 1232-2013 测定固体涂层、基材和颜料表面张力的试验方法接触角
8.YC∕T 424-2011 烟用纸表面润湿性能的测定
9.GBT 30693-2014 塑料薄膜与水接触角的测量
10.GBT 30447-2013 纳米薄膜接触角测量方法
11.DB44 T 1872-2016 纺织品 表面润湿性能的测定 接触角法
12.ISO 19403-7-2017 倾斜平台的接触角测量(滚动角)
13.ISO 19403-2-2017 通过测量接触角测定固体表面的表面自由能
14.BS EN 828-2013 胶粘剂.润湿性.固体表面接触角和表面自由能测定
15. KS L ISO 27448-2011(2021) 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷)-半导体光催化材料自清洁性能试验方法
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